ТАРГЕТИ ДЛЯ НАПИЛЕННЯ

Ми пропонуємо диски для вакуумного напилення (таргети для напилення) з чистотою до 99,9999% та діаметрами дисків від 2,54 мм до 203,3 мм, однак ми можемо поставляти диски (таргети/мішені) з будь-якими параметрами та будь-яких сплавів (NiCr, MoNb, NbZr, TiNb, TiAl, SiAl) або металів (Ti, Cu, Ni, NB, та, Ш, МО, CrZr, Hf, Ag, Zn).

Декілька слів про технологію

 

Вакуумна металізація (також відома як вакуумне напилення, магнетронне напилення) – це метод нанесення тонкого шару (покриття) даного металу на цільовий об’єкт, шляхом ерозії джерела та напилення (транспортування) парів металу на матеріал підкладки та їх конденсації. Загальна назва групи таких методів – фізичне осадження з газової фази, скорочено PVD, від англійської фізичної Vapour deposition.

Ця технологія використовується для нанесення покриттів для захисту, модифікації або облагородження вихідної поверхні. Різні застосування – від чисто декоративних до складних промислових застосувань – широко використовуються в багатьох галузях промисловості: хімічній, медичній, матеріалознавстві і, насамперед, електроніці (напівпровідники, фотовольтаїка і т.д.).

Основні параметри процесу

ЕНЕРГІЯ БОМБАРДУЮЧИХ ІОНІВ

Регульований шляхом зміни значення напруженості електричного поля. Десорбція атомів забруднюючих речовин та збільшення центрів конденсації, що утворюють поверхневі дефекти, призводять до утворення покриттів з хорошими фізичними властивостями та гарною зчіпкою з основою.

ПОРУШЕННЯ ПАР ЕЛЕКТРОННИМ ПУЧКОМ

Порушення електронно-променевих пар здійснюється за допомогою електронної пускової установки (гармати). Він використовується для джерела пар більшості високоплавких матеріалів.

ШВИДКІСТЬ РОЗПИЛЕННЯ

СТУПЕНЬ ІОНІЗАЦІЇ

ТЕМПЕРАТУРА ПІДСТАВИ ДИСКУ

Впливає на щільність і, отже, адгезію покриття, що наноситься.

ШВИДКІСТЬ РОЗПИЛЕННЯ

Таргети для напилення

Метод вакуумного напилення дозволяє рівномірно розподіляти шари елементами складної форми. У свою чергу, у разі певного технічного застосування, яке потребує високої або навіть виняткової вимоги до матеріалу, цей метод є практично єдиним способом для виконання завдання шляхом об’єднання матеріалів (металів) у відповідних пропорціях, пропонуючи можливість накладання декількох шарів один на одного.
Ще однією перевагою технології вакуумного напилення є її екологічність, оскільки вона не чинить негативного впливу на навколишнє середовище і не виробляє відходів або забруднень. Економічність вакуумної металізації також важлива, оскільки її виконання не потрібні великі енергетичні витрати.

Процес напилення відбувається у вакуумі, хоча це поняття може збивати з пантелику непрофесіонала. Йдеться середовище низького тиску, що містить інертний газ (наприклад, аргон), який під впливом магнітного поля піддається іонізації. Потім іони газу прискорюються в електричному полі і з дуже великою силою стикаються з диском (таргетом), в результаті чого окремі атоми матеріалу, що розпилюється, вириваються і потім переносяться на елемент, що покривається.

Альтернативним методом отримання металевої пари є використання лазерного імпульсу (PLD, від англ. pulsed laser deposition). Він полягає в імпульсному (один імпульс триває до декількох десятків наносекунд) впливу лазерного променя на поверхню диска, що в результаті невеликого тиску та високої інтенсивності випромінювання призводить до абляції матеріалу мішені, створюючи хмару плазми, частинки металу якої потім осідають, утворюючи покриття. Для отримання бажаної товщини покриття використовують серію з тисяч таких імпульсів.

Покриття, що одержуються за допомогою методу PVD, характеризуються відповідними механічними властивостями, такими як адгезія або міцність, фізичними властивостями (електропровідність, коефіцієнт тертя) або антикорозійними властивостями.

Різновиди вакуумного напилення

ГАЗОТЕРМІЧНИЙ НАПИЛ

НАПИЛЕННЯ

КОНДЕНСАЦІЯ

ЛАЗЕРНА ІСПАРЕННЯ

ІСПАРЕННЯ ВАКУУМНОЇ ДУГОЮ

Таргети для напилення

Застосування вакуумного розпилення

Металізація використовується в електронній скануючій мікроскопії, що дозволяє спостерігати об’єкти розміром менше 1 мкм. Для отримання зображень зразків непровідних струм спочатку покривають поверхню спостерігається об’єкта тонким металевим шаром, завдяки чому пучок електронів частково проникає в об’єкт, викликаючи емісію вторинних електронів, а детектори перетворюють цей сигнал в цифровий сигнал, створюючи образ.

Щоб розпилення проходило без небажаних домішок, щити повинні мати високу чистоту матеріалу. PVD-покриття використовуються в оптиці та мікроелектроніці, біомедичній або машинобудуванні, покращуючи властивості та функціональність корисних матеріалів.

СОНЯЧНІ ЕЛЕМЕНТИ
СОНЯЧНІ ЕЛЕМЕНТИ

АВТОМОБІЛЬНЕ ТА АРХІТЕКТУРНЕ СКЛО
АВТОМОБІЛЬНЕ ТА АРХІТЕКТУРНЕ СКЛО
ВИРОБНИЦТВО НАПІВПРОВІДНИКІВ
ВИРОБНИЦТВО НАПІВПРОВІДНИКІВ
ЕЛЕКТРОННІ МІКРОСКОПИ
ЕЛЕКТРОННІ МІКРОСКОПИ
ПЛОСЬКІ МОНІТОРИ
ПЛОСЬКІ МОНІТОРИ
ДЕТАЛІ, ЯКІ ПОВИННІ БУТИ ПОКРИТИ ТВЕРДИМИ ПОКРИТТЯМИ
ДЕТАЛІ, ЯКІ ПОВИННІ БУТИ ПОКРИТИ ТВЕРДИМИ ПОКРИТТЯМИ
МАГНІТНІ ПРИСТРОЇ ЗБЕРІГАННЯ ДАНИХ
МАГНІТНІ ПРИСТРОЇ ЗБЕРІГАННЯ ДАНИХ
ПРИСТРОЇ ОПТИЧНОГО ЗВ'ЯЗКУ
ПРИСТРОЇ ОПТИЧНОГО ЗВ’ЯЗКУ

Переваги методів PVD

Переваги методів PVD полягають у наступному:

  • низька температура обробки;
  • покриття зберігає хімічний склад вихідного матеріалу;
  • метод не викликає хімічних перетворень, а заснований лише на зміні стану кластера речовини, що наноситься;
  • зміна енергії осаджених частинок дозволяє контролювати формування мікроструктури покриттів, їх фазову структуру та хімічну структуру.

Нашу пропозицію

Wolften пропонує диски з чистотою до 99,9999% і діаметра дисків в діапазоні від 2,54 мм до 203,3 мм, проте ми можемо поставити диски з будь-якими параметрами і будь-яких сплавів (NiCr, MoNb, NbZr, TiNb, TiAl, SiAl) або металів (Ti, Cu, Ni, Nb, Ta, W, Mo, CrZr, Hf, Ag, Zn).