TARGETY NA NAPRAŠOVÁNÍ

TARGETY NA NAPRAŠOVÁNÍ

Nabízíme targety na naprašování s čistotou až 99,9999 % a průměrem v rozmezí od 2,54 mm do 203,3 mm. Jsme ale schopni dodat disky o jakýchkoli parametrech a vyrobené z jakýchkoli slitin (NiCr, MoNb, NbZr, TiNb, TiAl, SiAl) nebo kovů (Ti, Cu, Ni, Nb, Ta, W, Mo, CrZr, Hf, Ag, Zn).

Targety na naprašování – pár slov o technologii

 

Vakuová metalizace (známá také jako vakuové naprašování nebo magnetronové naprašování) je metodou aplikace tenkých vrstev kovu na cílový objekt díky erodování zdroje, rozprašování kovových par na substrátový materiál a následně jejich kondenzace. Obecným názvem pro skupinu takových metod je fyzikální depozice par nebo zkráceně PVD (physical vapour deposition).

Tato technologie se používá k nanášení kovových vrstev za účelem ochrany, úpravy nebo zdokonalení původního povrchu.

Různé aplikace, od čistě dekorativních až po složité průmyslové účely se často využívají v mnoha odvětvích – v chemickém, zdravotnictví, u materiálových věd a především v elektronice (polovodiče, fotovoltaika atd.).

Základní parametry procesu:

ENERGIE BOMBARDUJÍCÍCH IONTŮ

která je regulována změnou hodnoty síly elektrického pole. Desorpce atomů znečišťujících látek a zvýšená centra kondenzace vytvářející povrchové vady způsobují tvorbu povlaků s dobrými fyzikálními vlastnostmi a dobrou přilnavostí k podkladu

BUZENÍ PÁRŮ ELEKTRONOVÝM PAPRSKEM

buzení párů elektronovým paprskem pomocí elektronového děla – používá se v případě materiálů s vysokou teplotou tání

STUPEŇ IONIZACE

TLAK

TEPLOTA DISKU

ovlivňuje hustotu a tím i adhezi (přilnavost) aplikované vrstvy

RYCHLOST NAPRAŠOVÁNÍ

targety na naprašování

Základní parametry procesu:

 

  • teplota disku – ovlivňuje hustotu a tím i adhezi (přilnavost) aplikované vrstvy;
  • tlak plynu a stupeň ionizace;
  • energie bombardujících iontů, která je regulována změnou hodnoty síly elektrického pole. Desorpce atomů znečišťujících látek a zvýšená centra kondenzace vytvářející povrchové vady způsobují tvorbu povlaků s dobrými fyzikálními vlastnostmi a dobrou přilnavostí k podkladu;
  • rychlost naprašování;
  • vzdálenost mezi terčem a naprašovaným povrchem;
Vakuové naprašování umožňuje rovnoměrné rozložení vrstev na prvky o složitých tvarech. Na druhou stranu, v případě některých technických aplikací, které mají obtížné nebo dokonce protichůdné materiálové požadavky, je tato metoda prakticky jediným způsobem, jak je splnit.

Další výhodou technologie vakuového naprašování je její čistota, protože nemá negativní dopad na životní prostředí a nevytváří odpad ani znečištění. Nákladová efektivita vakuové metalizace je také důležitá, protože nevyžaduje velké energetické výdaje.

Proces naprašování probíhá ve vakuu, i když tento koncept může být pro laika matoucí. Jde totiž o nízkotlaké prostředí obsahující inertní plyn (např. argon), který podléhá ionizaci pod vlivem magnetického pole.

Plynné ionty jsou pak v elektrickém poli zrychleny a narážejí do targetu s velkou silou, v důsledku toho jsou jednotlivé atomy vytrženy ve formě oblouku.

Alternativní metodou získávání kovových par je použití laserového pulsu (PLD, ang. pulsed laser deposition).
Tato metoda je založena na impulzní interakci (jeden impuls trvá maximalně několik desítek nanosekund, cca 1×10-7 vteřiny ) laserového paprsku na povrchu terče, kdy díky nízkému tlaku a vysoké intenzitě záření dochazí k ablaci cílového materiálu.

Povlaky získané metodami PVD se vyznačují vhodnými mechanickými vlastnostmi, jako je přilnavost nebo tvrdost, fyzikálními vlastnostmi (vodivost, koeficient tření) a antikorozními vlastnostmi.

Druhy vakuové metalizace

NAPAŘOVÁNÍ

NAPRAŠOVÁNÍ

DEPOZICE
naprašovaných atomů v magnetickém poli

LASEROVÁ ABLACE

BUZENÍ PÁRŮ ELEKTRONOVÝM PAPRSKEM
  • napařování;
  • naprašování;
  • depozice naprašovaných atomů v magnetickém poli;
  • laserová ablace;
  • buzení párů elektronovým paprskem pomocí elektronového děla – používá se v případě materiálů s vysokou teplotou tání;

Aplikace vakuového napařování

Metalizace se používá v rastrovací elektronové mikroskopii, která umožňuje pozorování objektů menších než 1 µm (0,001 milimetr). Chcete-li získat obrázky z nevodivých vzorků, nejprve pokryjte povrch pozorovaného objektu tenkou kovovou vrstvou, díky čemuž elektronový paprsek částečně pronikne objektem, což způsobí emisi sekundárních elektronů. Pak detektory převádějí tento signál na jeho digitální podobu, která vytváří obraz.

Aby napařování probíhalo bez nežádoucí kontaminace, musí mít disky (targety) vysokou čistotu materiálu.

Povlaky PVD se používají v optice a mikroelektronice, biomedicíně nebo strojírenství, což zlepšuje vlastnosti a funkčnost spotřebního materiálu.


SOLÁRNÍ PANELY

STAVEBNÍ A AUTOMOBILOVÉ SKLO

VÝROBA POLOVODIČŮ

ELEKTRONOVÉ MIKROSKOPY

PLOCHÉ OBRAZOVKY

RŮZNÉ TECHNICKÉ ELEMENTY

MAGNETICKÁ ZAŘÍZENÍ PRO UKLÁDÁNÍ DAT

OPTICKÉ SÍTĚ

Výhody metod PVD

  • nízká teplota zpracování;
  • povlak udržuje chemické složení výchozího materiálu;
  • metoda nezpůsobuje chemické změny a je založena pouze na změně agregátního stavu aplikované látky;
  • změna energie nanesených částic umožňuje kontrolu mikrostruktury povlaků, jejich fází a chemické struktury.

Naše nabídka

WOLFTEN nabízí naprašovací targety s čistotou až 99,9999% a průměrem v rozmezí od 2,54 mm do 203,3 mm. Jsme ale schopni dodat disky o jakýchkoli parametrech a vyrobené z jakýchkoli slitin (NiCr, MoNb, NbZr, TiNb, TiAl, SiAl) nebo kovů (Ti, Cu, Ni, Nb, Ta, W, Mo, CrZr, Hf, Ag, Zn).