ТАРГЕТЫ ДЛЯ НАПЫЛЕНИЯ

ТАРГЕТЫ ДЛЯ НАПЫЛЕНИЯ

Мы предлагаем диски для вакуумного напыления (таргеты для напыления) с чистотой до 99,9999% и диаметрами дисков от 2,54 мм до 203,3 мм, однако мы можем поставлять диски(таргеты/мишени) с любыми параметрами и любых сплавов (NiCr, MoNb, NbZr, TiNb, TiAl, SiAl) или металлов (Ti, Cu, Ni, NB, та, Ш, МО, CrZr, Hf, Ag, Zn).

Несколько слов о технологии

 

Вакуумная металлизация (также известная как вакуумное напыление, магнетронное напыление) – это метод нанесения тонкого слоя (покрытия) данного металла на целевой объект, путем эрозии источника и напыления (транспортировки) паров металла на материал подложки и их конденсации. Общее название группы таких методов – физическое осаждение из газовой фазы, сокращенно PVD, от английского physical Vapour deposition.

Эта технология используется для нанесения покрытий для защиты, модификации или облагораживания исходной поверхности. Различные применения – от чисто декоративных до сложных промышленных применений – широко используются во многих отраслях промышленности: химической, медицинской, материаловедении и, прежде всего, электронике (полупроводники, фотовольтаика и т.д.).

Основные параметры процесса

ЭНЕРГИЯ БОМБАРДИРУЮЩИХ ИОНОВ

Регулируемое путем изменения значения напряженности электрического поля. Десорбция атомов загрязняющих веществ и увеличение центров конденсации, образующих поверхностные дефекты, приводят к образованию покрытий с хорошими физическими свойствами и хорошей сцепкой с основанием.

ВОЗБУЖДЕНИЕ ПАР ЭЛЕКТРОННЫМ ПУЧКОМ

Возбуждение электронно-лучевых пар осуществляется с помощью электронной пусковой установки (пушки). Он используется для источника пар большинства высокоплавких материалов.

СКОРОСТЬ РАСПЫЛЕНИЯ

ДАВЛЕНИЕ

ТЕМПЕРАТУРА ОСНОВАНИЯ ДИСКА

Влияет на плотность и, следовательно, адгезию наносимого покрытия

СТЕПЕНЬ ИОНИЗАЦИИ

Таргеты для напыления

Основные параметры процесса

 

  • ЭНЕРГИЯ БОМБАРДИРУЮЩИХ ИОНОВ – Регулируемое путем изменения значения напряженности электрического поля. Десорбция атомов загрязняющих веществ и увеличение центров конденсации, образующих поверхностные дефекты, приводят к образованию покрытий с хорошими физическими свойствами и хорошей сцепкой с основанием.
  • ВОЗБУЖДЕНИЕ ПАР ЭЛЕКТРОННЫМ ПУЧКОМ – Возбуждение электронно-лучевых пар осуществляется с помощью электронной пусковой установки (пушки). Он используется для источника пар большинства высокоплавких материалов.
  • СКОРОСТЬ РАСПЫЛЕНИЯ
  • СТЕПЕНЬ ИОНИЗАЦИИ
  • ТЕМПЕРАТУРА ОСНОВАНИЯ ДИСКА – Влияет на плотность и, следовательно, адгезию наносимого покрытия

Метод вакуумного напыления позволяет равномерно распределять слои по элементам сложной формы. В свою очередь, в случае определенного технического применения, которое требует высокое или даже исключительное требоввание к материаллу, этот метод является практически единственным способом, для выполнения задачи, путем объединения материалов (металлов) в соответствующих пропорциях, предлагая возможность наложения нескольких слоев друг на друга. Еще одним преимуществом технологии вакуумного напыления является ее экологичность, поскольку она не оказывает негативного воздействия на окружающую среду и не производит отходов или загрязнений. Экономичность вакуумной металлизации также важна, поскольку для ее выполнения не требуются большие энергетические затраты.

Процесс напыления происходит в вакууме, хотя это понятие может сбивать с толку непрофессионала. Речь идет о среде низкого давления, содержащей инертный газ (например, аргон), который под воздействием магнитного поля подвергается ионизации. Затем ионы газа ускоряются в электрическом поле и с очень большой силой сталкиваются с диском (таргетом), в результате чего отдельные атомы распыляемого материала вырываются и затем переносятся на покрываемый элемент.

Таргеты для напыления

Альтернативным методом получения металлического пара является использование лазерного импульса (PLD, от англ. pulsed laser deposition). Он заключается в импульсном (один импульс длится до нескольких десятков наносекунд) воздействии лазерного луча на поверхность диска, что в результате небольшого давления и высокой интенсивности излучения приводит к абляции материала мишени, создавая облако плазмы, частицы металла которой затем оседают, образуя покрытие. Для получения желаемой толщины покрытия используется серия из тысяч таких импульсов.

Покрытия, получаемые с помощью метода PVD характеризуются соответствующими механическими свойствами, такими как адгезия или прочность, физическими свойствами (электропроводность, коэффициент трения) или антикоррозионными свойствами.

Разновидности вакуумного напыления

ГАЗОТЕРМИЧЕСКОЕ НАПЫЛЕНИЕ

НАПЫЛЕНИЕ

КОНДЕНСАЦИЯ

ЛАЗЕРНАЯ ИСПАРЕНИЕ

ИСПАРЕНИЕ ВАКУУМНОЙ ДУГОЙ

вакуумное напыление
  • ГАЗОТЕРМИЧЕСКОЕ НАПЫЛЕНИЕ;
  • НАПЫЛЕНИЕ;
  • КОНДЕНСАЦИЯ;
  • ЛАЗЕРНАЯ ИСПАРЕНИЕ;
  • ИСПАРЕНИЕ ВАКУУМНОЙ ДУГОЙ;

Применение вакуумного распыления

Металлизация используется в сканирующей электронной микроскопии, позволяющей наблюдать объекты размером менее 1 мкм. Для получения изображений образцов непроводящих ток, сначала покрывают поверхность наблюдаемого объекта тонким металлическим слоем, благодаря чему пучок электронов частично проникает в объект, вызывая эмиссию вторичных электронов, а детекторы преобразуют этот сигнал в цифровой сигнал, создавая образ.

Чтобы распыление проходило без нежелательных примесей, щиты должны обладать высокой чистотой материала. PVD-покрытия используются в оптике и микроэлектронике, биомедицине или машиностроении, улучшая свойства и функциональность полезных материалов.

вакуумное напыление, СОЛНЕЧНЫЕ ЭЛЕМЕНТЫ СОЛНЕЧНЫЕ ЭЛЕМЕНТЫ
вакуумное напыление, АВТОМОБИЛЬНОЕ И АРХИТЕКТУРНОЕ СТЕКЛО АВТОМОБИЛЬНОЕ И АРХИТЕКТУРНОЕ СТЕКЛО
вакуумное напыление, ПРОИЗВОДСТВО ПОЛУПРОВОДНИКОВ ПРОИЗВОДСТВО ПОЛУПРОВОДНИКОВ
вакуумное напыление, ЭЛЕКТРОННЫЕ МИКРОСКОПЫ ЭЛЕКТРОННЫЕ МИКРОСКОПЫ
вакуумное напыление, ПЛОСКИЕ МОНИТОРЫ ПЛОСКИЕ МОНИТОРЫ
вакуумное напыление, ДЕТАЛИ, КОТОРЫЕ ДОЛЖНЫ БЫТЬ ПОКРЫТЫ ТВЕРДЫМИ ПОКРЫТИЯМИ ДЕТАЛИ, КОТОРЫЕ ДОЛЖНЫ БЫТЬ ПОКРЫТЫ ТВЕРДЫМИ ПОКРЫТИЯМИ
вакуумное напыление, МАГНИТНЫЕ УСТРОЙСТВА ХРАНЕНИЯ ДАННЫХ МАГНИТНЫЕ УСТРОЙСТВА ХРАНЕНИЯ ДАННЫХ
вакуумное напыление, УСТРОЙСТВА ОПТИЧЕСКОЙ СВЯЗИ УСТРОЙСТВА ОПТИЧЕСКОЙ СВЯЗИ

Преимущества методов PVD

Преимущества методов PVD заключаются в следующем:

  • низкая температура обработки;
  • покрытие сохраняет химический состав исходного материала;
  • метод не вызывает химических преобразований, а основан только на изменении состояния кластера наносимого вещества;
  • изменение энергии осажденных частиц позволяет контролировать формирование микроструктуры покрытий, их фазовую структуру и химическую структуру.

Наше предложение

Wolften предлагает диски с чистотой до 99,9999% и диаметра дисков в диапазоне от 2,54 мм до 203,3 мм, тем не менее, мы в состоянии поставить диски с любыми параметрами и любых сплавов (NiCr, MoNb, NbZr, TiNb, TiAl, SiAl) или металлов (Ti, Cu, Ni, Nb, Ta, W, Mo, CrZr, Hf, Ag, Zn).