Несколько слов о технологии

Вакуумная металлизация (также известная как вакуумное напыление, магнетронное напыление) – это метод нанесения тонкого слоя (покрытия) данного металла на целевой объект, путем эрозии источника и напыления (транспортировки) паров металла на материал подложки и их конденсации. Общее название группы таких методов – физическое осаждение из газовой фазы, сокращенно PVD, от английского physical Vapour deposition.

Эта технология используется для нанесения покрытий для защиты, модификации или облагораживания исходной поверхности. Различные применения – от чисто декоративных до сложных промышленных применений – широко используются во многих отраслях промышленности: химической, медицинской, материаловедении и, прежде всего, электронике (полупроводники, фотовольтаика и т.д.).

Основные параметры процесса

Основные параметры процесса

• ЭНЕРГИЯ БОМБАРДИРУЮЩИХ ИОНОВ – Регулируемое путем изменения значения напряженности электрического поля. Десорбция атомов загрязняющих веществ и увеличение центров конденсации, образующих поверхностные дефекты, приводят к образованию покрытий с хорошими физическими свойствами и хорошей сцепкой с основанием.
• ВОЗБУЖДЕНИЕ ПАР ЭЛЕКТРОННЫМ ПУЧКОМ – Возбуждение электронно-лучевых пар осуществляется с помощью электронной пусковой установки (пушки). Он используется для источника пар большинства высокоплавких материалов.
• СКОРОСТЬ РАСПЫЛЕНИЯ
• СТЕПЕНЬ ИОНИЗАЦИИ
• ТЕМПЕРАТУРА ОСНОВАНИЯ ДИСКА – Влияет на плотность и, следовательно, адгезию наносимого покрытия

Метод вакуумного напыления позволяет равномерно распределять слои по элементам сложной формы. В свою очередь, в случае определенного технического применения, которое требует высокое или даже исключительное требоввание к материаллу, этот метод является практически единственным способом, для выполнения задачи, путем объединения материалов (металлов) в соответствующих пропорциях, предлагая возможность наложения нескольких слоев друг на друга.
Еще одним преимуществом технологии вакуумного напыления является ее экологичность, поскольку она не оказывает негативного воздействия на окружающую среду и не производит отходов или загрязнений. Экономичность вакуумной металлизации также важна, поскольку для ее выполнения не требуются большие энергетические затраты.

Процесс напыления происходит в вакууме, хотя это понятие может сбивать с толку непрофессионала. Речь идет о среде низкого давления, содержащей инертный газ (например, аргон), который под воздействием магнитного поля подвергается ионизации. Затем ионы газа ускоряются в электрическом поле и с очень большой силой сталкиваются с диском (таргетом), в результате чего отдельные атомы распыляемого материала вырываются и затем переносятся на покрываемый элемент.

Таргеты для напыления

Альтернативным методом получения металлического пара является использование лазерного импульса (PLD, от англ. pulsed laser deposition). Он заключается в импульсном (один импульс длится до нескольких десятков наносекунд) воздействии лазерного луча на поверхность диска, что в результате небольшого давления и высокой интенсивности излучения приводит к абляции материала мишени, создавая облако плазмы, частицы металла которой затем оседают, образуя покрытие. Для получения желаемой толщины покрытия используется серия из тысяч таких импульсов.

Покрытия, получаемые с помощью метода PVD характеризуются соответствующими механическими свойствами, такими как адгезия или прочность, физическими свойствами (электропроводность, коэффициент трения) или антикоррозионными свойствами.

Разновидности вакуумного напыления

• ГАЗОТЕРМИЧЕСКОЕ НАПЫЛЕНИЕ;
• НАПЫЛЕНИЕ;
• КОНДЕНСАЦИЯ;
• ЛАЗЕРНАЯ ИСПАРЕНИЕ;
• ИСПАРЕНИЕ ВАКУУМНОЙ ДУГОЙ;

Применение вакуумного распыления

Металлизация используется в сканирующей электронной микроскопии, позволяющей наблюдать объекты размером менее 1 мкм. Для получения изображений образцов непроводящих ток, сначала покрывают поверхность наблюдаемого объекта тонким металлическим слоем, благодаря чему пучок электронов частично проникает в объект, вызывая эмиссию вторичных электронов, а детекторы преобразуют этот сигнал в цифровой сигнал, создавая образ.

Чтобы распыление проходило без нежелательных примесей, щиты должны обладать высокой чистотой материала. PVD-покрытия используются в оптике и микроэлектронике, биомедицине или машиностроении, улучшая свойства и функциональность полезных материалов.

Преимущества методов PVD

Преимущества методов PVD заключаются в следующем:

• низкая температура обработки;
• покрытие сохраняет химический состав исходного материала;
• метод не вызывает химических преобразований, а основан только на изменении состояния кластера наносимого вещества;
• изменение энергии осажденных частиц позволяет контролировать формирование микроструктуры покрытий, их фазовую структуру и химическую структуру.

Наше предложение

Wolften предлагает диски с чистотой до 99,9999% и диаметра дисков в диапазоне от 2,54 мм до 203,3 мм, тем не менее, мы в состоянии поставить диски с любыми параметрами и любых сплавов (NiCr, MoNb, NbZr, TiNb, TiAl, SiAl) или металлов (Ti, Cu, Ni, Nb, Ta, W, Mo, CrZr, Hf, Ag, Zn).